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環境測定・分析サービス / 微量分析

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クリーンルーム内雰囲気分析、超純水分析

近年、半導体や液晶・ディスプレイ等の製造においては、製品の品質管理の上でクリーンルーム内の環境管理の重要性が増してきております。
その管理対象は、クリーンルームや製造装置内の雰囲気だけでなく、　クリーンルームに提供する清浄な空気や空調システム又はケミカルフィルタ及び高純度の圧縮空気や窒素ガス超純水など幅広くなってきています。また、製品のみならずクリーンルーム内で働く労働者の衛生管理も忘れてはならない測定です。（労働安全衛生法：昭和47年6月8日　第57号　第65条）弊社は、これらの測定に長年の経験に基づく知識と確かな技術力を保有しており、分析だけでなく、調査およびデータ解析の面でも皆様のお役に立てる自信を持っております。
また、同じく、微量分析における純水分析についても豊富な経験を有しております。

純水とは「不純物を少なくした純度の高い水」のことを指し、その不純物を技術的に可能な限り取り除き、限りなく水（H2O）に近づけた高純度なものが超純水です。
半導体ウエハや液晶パネル製造工場など高純度な水が必要な用途に対し、要求品質が満たされているかの品質管理を弊社でお手伝いすることが可能です。

特長

超純水中の陰イオン試験（JIS K 0556）において ISO 17025 を取得しており、確かな技術力で高精度・高品質の測定データを提供いたします。
クリーンルーム内各所の雰囲気有機・無機不純物測定
空調機内外の無機不純物測定
露光装置などのTOC・シロキサン類測定
高純度圧縮空気（ドライエアー）や窒素ガスの有機・無機不純物分析

主な試験（測定・分析）内容

クリーンルーム関連空気測定

酸性ガス（Acids）、塩基性ガス（Bases）は、インピンジャで捕集しイオンクロマトグラフで分析します。
有機ガス（Condensables)は、TENAX吸着管で捕集しガスクロマト質量分析計で分析します。いずれも10pptオーダーで測定する事が出来ます。

※左右にスクロールしてご覧ください。

	項目	成分
無機不純物	陰イオン	CI^-,F^-,NO₂^-,NO₃^-,SO₄^2-,PO₄^3-
	有機酸	HCOOH,CH₃COOH等
	陽イオン	Na⁺,NH₄⁺ K⁺,Ca²⁺,Mg²⁺
	アミン類	MMA,DMA,TMA等
	金属	Fe,Cu,Ni,Cr,Zn等
有機不純物	TOC	低・中・高沸点別算出
	シロキサン類	TMS,M₂,D₃〜D₈等
	フタル酸エステル類	DEP,DBP,DOP等
	リン酸エステル類	TECP等
	油分

ケミカルフィルタ性能評価試験

クリーンルーム内の空気中分子状汚染物質を除去する方法として、ケミカルフィルターが用いられております。
これらの製品の性能評価試験を実施いたします。

クリーンルーム内作業環境測定

クリーンルーム内におきましては、多種多様な薬品類が使用されております。
測定対象物質を使用されている事業場では、定期的に作業環境測定士による作業環境測定が義務付けられております。

超純水測定

半導体や液晶の製造に欠かすことのできないのが超純水です。その超純水につきましても定期的に品質管理を行う必要があります。
弊社は、超純水の分析をする確かな技術を持っております。

イオンクロマトグラフ
TOC計

事業許可・保有資格・機器

誘導結合プラズマ質量分析計（ICP-MS）
ガスクロマトグラフ質量分析計（GC/MS）